本文源自:金融界金融界2025年7月12日消息，準(zhǔn)直準(zhǔn)直國家知識產(chǎn)權(quán)局信息顯示，器的器寬上海華力集成電路制造有限公司申請一項(xiàng)名為“準(zhǔn)直器調(diào)節(jié)模塊及其使用方法、工作磁控濺射設(shè)備、距離介質(zhì)”的意思專利，公開號CN120291042A，準(zhǔn)直準(zhǔn)直申請日期為2025年05月。器的器寬

專利摘要顯示，工作本發(fā)明提供了一種準(zhǔn)直器調(diào)節(jié)模塊及其使用方法、距離磁控濺射設(shè)備、意思介質(zhì)，準(zhǔn)直準(zhǔn)直準(zhǔn)直器調(diào)節(jié)模塊用于安裝在靶材放置位置與原始準(zhǔn)直器之間；準(zhǔn)直器調(diào)節(jié)模塊，器的器寬被配置為：調(diào)節(jié)原始準(zhǔn)直器上的工作目標(biāo)調(diào)節(jié)區(qū)域的粒子通過量，以優(yōu)化待沉積晶圓的距離表面的沉積均勻度；其中，目標(biāo)調(diào)節(jié)區(qū)域?yàn)樵紲?zhǔn)直器上的意思與待沉積晶圓的表面的待優(yōu)化區(qū)域的位置相對應(yīng)的區(qū)域。

本發(fā)明提供的準(zhǔn)直器調(diào)節(jié)模塊及其使用方法、磁控濺射設(shè)備、介質(zhì)，通過將準(zhǔn)直器調(diào)節(jié)模塊安裝在靶材放置位置與原始準(zhǔn)直器之間，能夠調(diào)節(jié)原始準(zhǔn)直器上的目標(biāo)調(diào)節(jié)區(qū)域的粒子通過量，從而能夠優(yōu)化待沉積晶圓的表面的沉積均勻度，進(jìn)而能夠提升晶圓良率。

天眼查資料顯示，上海華力集成電路制造有限公司，成立于2016年，位于上海市，是一家以從事軟件和信息技術(shù)服務(wù)業(yè)為主的企業(yè)企業(yè)注冊資本2960000萬人民幣通過天眼查大數(shù)據(jù)分析，上海華力集成電路制造有限公司參與招投標(biāo)項(xiàng)目2079次，專利信息2308條，此外企業(yè)還擁有行政許可343個(gè)。